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供应产品
该射频电源采用3U半机箱设计,整机功率密度高支持连续波、脉冲、多级脉冲的工作模式可自定义配置脉冲信号,响应速度快,信号质量高快速的信号响应时间,以及脉冲上升/下降时间支持高速、高精度的调频功能,扫频范围宽。内设多种保护机制,稳定性高应用特征该电源主要应用对象包括:刻蚀、ICP、光学镀膜、等离子清洗、等离子
最后更新:2024-11-21
产品性能:大功率电源是新一代射频电源发生器,单台输出功率可达30KW。产品广泛应用于LCD、光伏等行业。典型应用包括溅射、PECVD和表面处理产品特征:采用先进的功率发生器,输出功率高,稳定可靠;搭配12寸工业触控屏,方便控制于显示;自主研发的高功率电源匹配器,能实现快速匹配;具备电弧抑制功能,可以有效抑制负载产
最后更新:2024-11-21
产品特点完善的射频和离子源控制系统;快速达到放电稳定状态(10s以内);中和器快速稳定(3s以内);在导轨上移动,移动距离大于3米;法兰安装方便;配射频中和器。
最后更新:2024-11-21
是一种用于产生等离子体的装置,通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺,以及半导体刻蚀和薄膜设备的预处理反应和清洗等。与传统等离子体源不同的是,RPS通常不直接接触要处理的表面,而是在一定距离之外产生等离子体,并将等离子体输送到目标表面,因此被称为“远程等离子体源”。应用特征采用新
最后更新:2024-11-21