贺利氏光刻胶用聚合物单体Clevios

贺利氏在聚丙烯酸酯类关键层光刻胶领域拥有多年的生产经验。作为半导体行业必不可少的产品，单体主要用于生产光刻胶溶液的定制化聚合物。

TA-103、TA-102、TA-101、HAdMA、9-AMM、ECHA、MAdMA、MNLMA、PL Phenyl Methyl、PLPM、TBGU、

PL-1174、PA-528、PA-298、PA-411、PA-480、HTPG-104S、ILP-113、ILP-118、ILP-110N、ILP-110、NIN 、NIT 、

PA-229、MDT、DTBPIO-CS、DTBPIO-TFMBS、TPS-TFMBS、DTBPIO-Nf、TBPDPS-Nf 、TPS-Nf、TBPTMS-N3、

TPS-N3、PA-304、DTBPIO-C1、TTBPS-C1、TPS-C1、PA-320、PA-313、PA-253等。

各用途皆可咨询

Clevios™导电聚合物的优势

1.优质导电聚合物（电导率可达1000 S/cm）

2.良好的化学稳定性

3.高透明度（Y值高达90%@d=100nm）

4.易于使用的聚合物分散体，适用于原位聚合反应

5.安全环保

6.可根据具体应用提供定制化产品

7.良好的热稳定性和紫外线稳定性

8.可扩大产能以满足工业需求