Clevios F HC Solar光活性层浆料

Clevios F HC Solar/Clevios HTL Solar空穴传输材料蓝色浆料CAS号：155090-83-8PH值：-2适用于位于光活性层（如 P3HT:PCBM）之上的倒置电池，具有出色的表面润湿性能。（标准电池、串联电池、太阳能电池、顶电极或底电极的反相电池）上海恺邺电子科技有限公司应用领域：显示器（LCD/OLED/QLED）抗静电包装托盘、显示器抗静

最后更新：2024-05-13

CLEVIOS SV4 stab贺利氏丝网印刷浆料

CLEVIOS SV4 stab（可使用传统热风炉干燥也可用贺利氏定制特种光源IR）用于面印刷和细线路印刷同系列应用：SV3,SV3 STAB,SV4,SV4 STAB优点：可经热塑成型为三维形状，高柔性，高透明度（无气泡）高导电，易于水洗。透明电极应用：无机电致发光等EL，触摸屏或触摸开关，电致变色装置，压电装置，印刷电子。应用：透明电极，

最后更新：2024-05-13

PH1000 clevios贺利氏导电涂料

CLEVIOS PH 1000（PEDOT/PSS分散体）应用范围：高导电配方、电致发光（EL）照明的水分散体、面板、触摸屏、光伏、传感器以及可穿戴设备等。可用于制备导电膜、导电电极、传感器、柔性电子器件等。适用于不同的基材：玻璃、聚酰亚胺（PI）、聚酯（PET）、聚酯酸酯（PC）。制备方法：溶涂、喷涂、印刷等。沸点约等于100℃太阳

最后更新：2024-05-13

Clevios光刻胶聚合物PEDOT PSS

随着微芯片继续朝强小型化发展以及半导体的计算能力不断提高，市场对于黄光制作的需求与日俱增。贺利氏电子化学材料聚亚烷基二醇（PAG）可赋予关键层光刻胶独特的性能。1.光致产酸剂（PAG）2.i-line和宽带光致产酸剂3.弱酸光致产酸剂4.热致产酸剂5.感光起始剂为了显示光刻胶和半导体封装光刻胶配方提供了一种高性价比、各种

最后更新：2024-01-08

贺利氏光刻胶用聚合物单体Clevios

贺利氏在聚丙烯酸酯类关键层光刻胶领域拥有多年的生产经验。作为半导体行业必不可少的产品，单体主要用于生产光刻胶溶液的定制化聚合物。TA-103、TA-102、TA-101、HAdMA、9-AMM、ECHA、MAdMA、MNLMA、PL Phenyl Methyl、PLPM、TBGU、PL-1174、PA-528、PA-298、PA-411、PA-480、HTPG-104S、ILP-113、ILP-118、ILP-110N、ILP-

最后更新：2024-01-08

Clevios关联剂贺利氏电子化学材料

交联剂对于半导体行业，交联剂是一种不可或缺的产品。配合聚合物使用时，交联剂能使分子链键合在一起。得到在存储芯片和逻辑芯片生产中必须使用的光刻胶溶液。每种金属离子杂志的含量都降至10pbb以下，对于生产小型化的存储芯片和逻辑芯片非常关键。贺利氏电子化学材料为电容器、显示器与光刻胶等应用提供重要原材料。PEDOT

最后更新：2024-01-08

PEDOT液晶折叠显示屏材料Heraeus

Clevios™-PEDOT:PSS贺利氏Clevios™ PEDOT:PSS的电导率达到1000 S/cm多种供货形态，针对原位聚合反应，贺利氏既可以提供单体形态的Clevios™导电聚合物，也可提供纯水基分散体，或者含溶剂和添加剂的即用型配方。包含（单体、氧化剂、绝活无以及专为具体用途设计的各种配方）应用领域广泛，凭借其出色的特性，广泛用于众多

最后更新：2024-01-08

供应贺利氏高分子PEDOT PSS原液

最后更新：2024-01-08